책소개

오늘날 반도체 산업은 4차 산업혁명의 핵심 기반 기술로서, 인공지능, 빅데이터, 사물인터넷 등 미래 기술 발전의 중추적인 역할을 담당하고 있습니다. 이러한 반도체 산업의 발전은 고도화된 제조 공정 기술과 이를 뒷받침하는 첨단 장비의 개발 및 유지보수 기술에 크게 의존하고 있습니다.
독자 여러분이 본 도서를 통해 반도체 제조 공정 장비의 원리와 유지보수 방법을 깊이 있게 이해하고, 실제 현장에서 유용하게 활용할 수 있기를 바랍니다. 감사합니다.

저자소개

목차

1장 반도체 포토공정 장비 제작 유지보수
■ 감광액, 노광, 현상 | 5p
■ 포토장비 유지 보수 | 14p

제2장 반도체 식각공정 장비 제작 유지보수
■ 습식식각, 건식식각 | 21p
■ 식각장비 유지 보수 | 27p

제3장 반도체 박막 장비 제작 유지보수
■ CVD공정 및 정의 | 30p
■ 스퍼터링 원리 및 이해 | 39p

제4장 반도체 확산 장비 제작 유지보수
■ 확산공정 원리 | 42p
■ 열산화공정 이해 | 49p

제5장 반도체 장비 부품 유지보수
■ MFC | 58p
■ IGS, VCR | 66p

제6장 반도체 이온 장비 제작 유지보수
■ 이온 주입 원리 | 70p
■ 열처리 원리 및 장치 이해 | 76p

제7장 반도체 세정 장비 제작 유지보수
■ 세정공정 조건 및 방법 | 85p
■ RCA세정 이해 | 89p

제8장 화학적 기계적 연마(CMP) 장비 제작 유지보수
■ CMP장비 구성 | 96p
■ CMP모듈 구성 | 99p

제9장 반도체 테스트 공정 장비 제작 유지보수
■ 프로브 스테이션 | 110p
■ 핸들러 | 115p

제10장 반도체 진공 플라즈마 장비 제작 유지보수
■ 플라즈마 기초 | 123p
■ 플라즈마 구성 이해 | 128p